李响 | “同样的发明创造”的判断标准刍议——兼论“同日申请”制度的衰亡



202616日,最高人民法院,针对国家知识产权局在2024228日作出的第563603号无效审查决定,作出维持该决定的行政判决[1]。涉案专利名为一种单芯片具有校准/重置线圈的Z轴线性磁电阻传感器的专利201510005952.7,国知局认为涉案专利与同日申请的实用新型专利是同样的发明创造,不符合专利法第九条的规定,宣告该专利权全部无效。由此引出同样的发明创造的判断标准问题。

一、关于“同样的发明创造”


在我国专利法的语境中,发明创造是个上位概念,特指发明、实用新型和外观设计三种类型。《专利法》第九条第一款的规定包括原则和例外两个部分,其中,同样的发明创造只能授予一项专利权这句话,就是专利法原理中的禁止重复授权原则。但书部分的同一申请人同日对同样的发明创造既申请实用新型专利又申请发明专利,先获得的实用新型专利权尚未终止,且申请人声明放弃该实用新型专利权的,可以授予发明专利权是中国专利制度特有的例外规定。

《专利审查指南(2010)》在第四部分第七章中指出[2]

专利法第九条所述的同样的发明创造,对于发明和实用新型而言,是指要求保护的发明或者实用新型相同,有关判断原则适用本指南第二部分第三章第6.1节的规定;对于外观设计而言,是指要求保护的产品外观设计相同或者实质相同,所述相同或者实质相同的判断适用本部分第五章的规定。

根据上述指南中的上述规定,对于发明和实用新型而言,是指要求保护的发明或者实用新型相同对于外观设计而言,是指要求保护的产品外观设计相同或者实质相同。两相比较存在的差别是:发明和实用新型采用相同的标准,而对于外观设计,采用相同或者实质相同的标准。从立法技术看,两者的判断标准有所不同。对于发明和实用新型而言,两者是否构成同样的发明创造,仅仅看两者是否相同,不包括实质相同。上述的理解是否正确,第563603号无效审查决定正好是一个研究样本。

需要说明的是,《专利审查指南(2010)》第二部分第三章第6.1节规定;对于发明或实用新型,专利法第九条或专利法实施细则第四十一条中所述的同样的发明创造是指两件或两件以上申请(或专利) 中存在的保护范围相同的权利要求。

由此可见,对于发明或实用新型而言,所谓相同的判断标准是以权利要求的保护范围是否相同来判断的。

二、无效程序与实审程序中判断标准的一致性问题


563603号无效审查决定的决定要点如下:


按照其决定要点,合议组也认为以涉案专利与同日申请的实用新型专利(即证据1保护范围是否相同作为判断标准的。

涉案专利的权利要求1如下:

“1.一种单芯片具有校准/重置线圈的Z 轴线性磁电阻传感器,其特征在于,包括单芯片Z 轴线性磁电阻传感器,以及校准线圈或/和重置线圈;

所述单芯片Z 轴线性磁电阻传感器包括……

所述校准线圈为平面校准线圈或三维校准线圈,所述校准线圈包含平行于所述推磁电阻传感单元串和挽磁电阻传感单元串的直导线,且分别在所述推磁电阻传感单元串和挽磁电阻传感单元串处产生具有强度相同,但方向分别平行和反平行于所述被钉扎层磁化方向的磁场分量的校准磁场;

所述重置线圈为平面重置线圈或三维重置线圈,所述重置线圈包含平行于所述磁电阻传感单元被钉扎层磁化方向的直导线,且在所有所述磁电阻传感单元处均产生具有平行于自由层磁化方向的磁场分量的均匀重置磁场。

与同日申请的实用新型专利(即证据1)的权利要求1相比,该决定指出:本专利权利要求1和证据1权利要求1的文字区别仅在于,本专利权利要求1多限定了所述校准线圈为平面校准线圈或三维校准线圈所述重置线圈为平面重置线圈或三维重置线圈,其他特征均相同。

针对上述区别,请求人认为:本专利对校准线圈、重置线圈的平面三维的限定,是对于线圈布置方式限定,对于本领域技术人员来说,线圈通常指呈环形的导线绕组,布置方式只有平面或三维两种可能性,本专利权利要求1所限定的所述校准线圈为平面校准线圈或三维校准线圈所述重置线圈为平面重置线圈或三维重置线圈已经概括了校准线圈和重置线圈的所有布置方式体现的形态。

请求人由此认为:本专利权利要求1与证据1权利要求1保护范围实质相同

合议组同意请求人的上述观点,认为:线圈的平面三维的布置方式是该领域中固有的、必然的布置方式,证据1权利要求1中校准线圈和重置线圈也必然体现为平面三维的布置方式。

合议组结论道:本专利权利要求1与证据1权利要求1属于同样的发明创造,保护范围相同,本专利权利要求1不符合专利法第九条第一款的规定。

对于同样的事实,合议组认定保护范围相同,而请求人认为保护范围实质相同,这究竟是为什么呢?

从一般意义上说,当指南中的措辞出现相同实质相同时,表明相同的外延不能扩大至实质相同;相反,实质相同的内涵则包括相同

但可以肯定的是,合议组将请求人自己都主张的实质相同直接说成是相同,这样便可以从字面上符合指南中的规定。

我们再来看看实质审查阶段中,审查员是否注意到同日申请的重复授权问题,以及采用什么标准来判断是否属于同样的发明或实用新型

审查员于20161229日发出第一次审查意见


可以看出,审查员已经注意到同日申请的实用新型专利 CN 204347226U可能会引发重复授权问题。审查员采用的是相同标准,其在审查意见中温馨写道:


申请人按照审查员的提醒,对权利要求书做了修改:在权利要求1中增加限定了所述校准线圈为平面校准线圈或三维校准线圈所述重置线圈为平面重置线圈或三维重置线圈

审查员根据申请人于2017425日提交的经修改的权利要求书,认为已经克服了与同日申请的实用新型专利保护范围相同的问题,遂发出授权通知书。

 

由此可见,在判断标准上,审查员理解的相同是严格的字面意义上的相同而予以授权,而合议组理解的相同实际上是实质相同标准,以此宣告涉案专利权无效。

三、关于听证原则的正确理解


听证原则是专利审查程序中必须遵守的重要原则,也是依法行政的具体体现。各个时期的《专利审查指南》,都将听证原则贯彻在国知局所有专利审查程序中的各个具体程序阶段中,包括不限于初审程序、实质审查程序、复审程序和无效宣告程序。

《专利审查指南》第四部分第一章是总则,其规定的审查原则是普遍适用的,包括:合法原则、公正执法原则、请求原则、依职权审查原则、听证原则和公开原则。因此,《专利审查指南》对听证原则是有明确规定。

根据听证原则,国知局在作出不利于当事人决定之前,应当给当事人释明审查决定所依据的理由、证据和认定的事实,并且具有陈述意见的机会。这意味着在本文讨论的案例中,合议组应明确公开其心证和不利后果。如果没有这样明确的告知而直接作出不利的审查决定,明显违反听证原则。

而(2024)最高法知行终1262号行政判决书关于《专利审查指南》并未明确规定合议组应当履行告知义务问题[3]的说法,显然是对上述专利审查指南规定的听证原则选择性失明

四、结语:“同日申请”制度的归宿


同日申请制度具有鲜明的中国特色。虽然在我国专利法第三次修改时将其纳入专利法第九条中,但无论是否放弃先授权的专利权,客观上都出现了两次的授权行为,导致与禁止重复授权原则背道而驰。有关部门似乎意识到这一弊端,囿于制度惯性,不断试图通过修修补补来维持该制度,例如在实施细则和指南层面设立一些限制条件,甚至采取行政手段尽量拖延发明专利的授权,在本文讨论的案例中,实体问题上对相同标准采取扩大化解释,程序上以专利审查指南没有明确规定为由变相剥夺听证机会。特别值得注意的是,自202611日起,新修改的《专利审查指南》[4]进一步压缩同日申请制度的空间:如果发明专利申请经审查没有发现驳回理由,无论其授权保护范围是否与已授权的实用新型专利相同,申请人都必须声明放弃实用新型专利权,才能获得发明专利授权。此举意味着申请人不再具有选择权,必须放弃实用新型专利权才可能获得发明专利权。种种这些做法,足以说明有关部门不鼓励采取一案两请的申请策略,预示着同日申请制度的归宿就是逐步退出历史舞台。

注释(上下滑动阅览)

1】参见(2024)最高法知行终1262号。

2】在2026年施行的《专利审查指南》中,仍保持上述规定。

3】该判决书写道:关于重复授权,《专利审查指南》并未明确规定合议组应当履行告知义务。本案中,多维公司在无效宣告程序中并未明确放弃实用新型专利权,其虽在口头审理中表示如果合议组认为是重复的话,专利权人是可以放弃实用新型的,但该表述仅表达了多某公司附条件的可以放弃的意愿。国家知识产权局充分听取了多某公司的意见,但是,多某公司并未明确表示放弃实用新型专利权。在没有明确法律规定的情况下,本案尚不足以认定被诉决定违反法定程序。

4】见国家知识产权局关于修改《专利审查指南》的决定(局令第84号),自202611日起施行。

 

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